IT之家 12 月 27 日音问，DNP 大日本印刷当地技巧本月 12 日告示，顺利在其光掩模成品上绘图了维持 2nm 及以下 EUV 工艺的笼统光掩模图案；同期该企业还完成了维持 High NA EUV 光刻的光掩模的初步评估并已向生态勾合伙伴出样。

　　IT之家注：

　　在当代光刻系统中，光掩模上的“大图案”是在晶圆上的芯片电路“小图案”的模板。

　　DNP 在 2023 年完成了适用于 3nm 工艺的光掩模建树，而自傲 2nm 及以下工艺的光掩模不仅需要在直线图案尺寸上较 3nm 世代居品削弱 20%，也需要在复杂度更为突显的弧线图案上达成同比例的尺寸压缩。

　　左侧为直线图案，右侧为弧线图案

三隅 倫 巨乳

　　DNP 这次顺利绘图笼统图案，意味着其光掩模居品可自傲 2nm 及以下模式制程逻辑半导体的分娩需求，为更高效逻辑芯片的曝光打下了基础。该企业计较于 2027 财年（肇始于同当然年 4 月）达成 2nm 光掩模量产。

　　磋议到 DNP 和 Rapidus 两边的勾搭联系美国十次啦怎么看不了，DNP 的光掩模新品展望将用于 Rapidus 计较于 2025 年 4 月运转的 2nm 试产线。